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J-GLOBAL ID：200903079910907981

プラズマ発生方法およびプラズマ発生装置

Inventor： 水井 順一 ,  阿部 隆夫 ,  佐竹 宏次 ,  池田 哲哉
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 藤田 考晴 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998233274
Publication number (International publication number)：2000068097
Application date： Aug. 19, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】 プラズマ発生方法およびプラズマ発生装置において、プロセス速度が速く、基板等処理材料の位置で高いプラズマ密度を効率的に発生させること。【解決手段】 発生させた磁場の磁力線8に沿って伝播する電磁波を高周波アンテナ3で励起し、前記電磁波で少なくとも水素化合物ガス、水素希釈ガス、水素ガス、ヘリウム化合物ガス、ヘリウム希釈ガスまたはヘリウムガスのいずれか一つを放電してプラズマを発生させる方法であって、前記磁力線が発散状態となる非一様磁場空間中に前記高周波アンテナを配置してプラズマを発生させる。

Claim (excerpt)：

発生させた磁場の磁力線に沿って伝播する電磁波を高周波アンテナで励起し、前記電磁波で少なくとも水素化合物ガス、水素希釈ガス、水素ガス、ヘリウム化合物ガス、ヘリウム希釈ガスまたはヘリウムガスのいずれか一つを放電してプラズマを発生させる方法であって、前記磁力線が発散状態となる非一様磁場空間中に前記高周波アンテナを配置してプラズマを発生させることを特徴とするプラズマ発生方法。