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J-GLOBAL ID：200903079939242075

気相グラフト反応法

Inventor： 大豊 武彦 ,  三浦 司和
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Agent (1)： 清水 猛 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991349757
Publication number (International publication number)：1993156057
Application date： Dec. 10, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 イオン交換基、親水性基などの官能基を多孔性膜の細孔内表面に均一に導入する方法に関する。【構成】 高分子化合物の表面に放射線グラフト重合する方法において、高分子化合物に電離性放射線を照射してラジカルを生成させ、モノマーを気相グラフト反応する時に、不活性ガスをキャリアガスとして使用し、電離性放射線の線量に傾斜をつける。【効果】 特定の気相法の放射線グラフト重合法により、膜内部に微視的、巨視的に官能基の分布にむらがない、理想的な機能性多孔膜が得られる。この膜は、は、親水性多孔膜、イオン吸着膜、キレート膜、アフィニティ膜に応用が可能である。

Claim (excerpt)：

高分子化合物の表面に放射線グラフト重合する方法において、高分子化合物に電離性放射線を照射してラジカルを生成させ、モノマーを気相グラフト反応する時に、不活性ガスをキャリアガスとして使用し、電離性放射線の線量に傾斜をつけることを特徴とする、気相グラフト反応方法。

IPC (5)：

C08J 7/18 ,  C08F 2/34 MCF ,  C08F 2/34 MCT ,  C08F 2/46 MDT ,  C08F291/00 MPZ