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J-GLOBAL ID：200903079952424859

超純水製造装置

Inventor： 室下 康人 ,  行政 定夫 ,  浜中 順也 ,  遠藤 志げみ
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993103061
Publication number (International publication number)：1994312175
Application date： Apr. 28, 1993
Publication date： Nov. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 超純水の使用量が減少した場合でも、超純水中の溶存酸素濃度を低く保つ。【構成】 一次純水貯槽10の一次純水を二次純水製造設備(低圧紫外線装置11、イオン交換装置12、限外濾過装置13)で処理して得られる超純水をユースポイント14に供給して使用に供すると共に、使用した残余の超純水を調節弁16で分割して、一次純水貯槽10と、脱気装置7の前段の第1純水槽6に返送する。

Claim (excerpt)：

少なくともイオン除去装置と脱気装置とを有する一次純水製造設備と、一次純水製造設備から得られる一次純水を貯留する一次純水貯槽と、一次純水貯槽内の一次純水を更に処理する少なくともイオン除去装置と膜装置とを有する二次純水製造設備と、二次純水製造設備から得られる超純水をユースポイントに供給してその使用に供するとともに使用した残余の超純水を前記一次純水貯槽に循環する配管設備とを有する超純水製造装置において、前記残余の超純水の一部を一次純水製造設備の脱気装置の前段に戻すための返送配管を付設したことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (4)：

C02F 1/20 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 9/00