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J-GLOBAL ID：200903079985403318

常圧プラズマ処理装置

Inventor： 屋代 進
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003151199
Publication number (International publication number)：2004355921
Application date： May. 28, 2003
Publication date： Dec. 16, 2004
Summary：

【課題】プラズマ処理空間を均等吸引可能な常圧プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】上下の電極ユニット10,20(処理空間形成)の間に常圧のプラズマ処理空間1aを形成する。空間1aの1の縁部には、処理済みのガスを吸引排気する吸込み手段31を設ける。吸込み手段31は、プラズマ処理空間1aに吸込み口を介して連なるチャンバー37を有している。チャンバー37は、上記1の縁部の両端側に対応する端側チャンバー部37aと、上記1の縁部の中間側に対応する中間チャンバー部37bとに分かれている。各チャンバー部37a,37bに排気ポンプ40が連なっている。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

一対の電極を有して略常圧のプラズマ処理空間を形成する処理空間形成部と、上記プラズマ処理空間に処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、上記プラズマ処理空間の1の縁部から処理済みのガスを吸込む吸込み手段とを備えた常圧プラズマ処理装置であって、上記吸込み手段が、上記1の縁部の両端側に対応する端側吸込み部と、上記1の縁部の中間側に対応する中間吸込み部とに分かれており、これら吸込み部ごとに吸込み可能になっていることを特徴とする常圧プラズマ処理装置。

IPC (7)：

H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/455 ,  C23C16/515 ,  C23F4/00 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

FI (7)：

H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  C23C16/455 ,  C23C16/515 ,  C23F4/00 A ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101E

F-Term (32)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA14 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4K030EA03 ,  4K030EA08 ,  4K030FA01 ,  4K030JA09 ,  4K057DA16 ,  4K057DA20 ,  4K057DD01 ,  4K057DG08 ,  4K057DM06 ,  4K057DM37 ,  4K057DN01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB11 ,  5F004BC02 ,  5F004BC03 ,  5F004BD01 ,  5F045AA08 ,  5F045AE29 ,  5F045DQ16 ,  5F045EB02 ,  5F045EG02 ,  5F045EG06 ,  5F045EH13