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J-GLOBAL ID：200903080030224000

光学活性3-ヒドロキシイソブタン酸エステル類の製造方法

Inventor： 万木 啓嗣 ,  中川 浩一
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998300853
Publication number (International publication number)：2000128832
Application date： Oct. 22, 1998
Publication date： May. 09, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】光学活性な3-ヒドロキシイソブタン酸エステル類を効率的に製造する方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1):(式中、R1、R2はそれぞれ独立して、水素原子または有機残基を表す)で表されるα-ヒドロキシアルキルアクリル酸エステル類を、不斉水素化反応させることを特徴とする、下記一般式(2):(式中、R1、R2はそれぞれ独立して、水素原子または有機残基を表し、*は不斉炭素を表す)で表される光学活性な3-ヒドロキシイソブタン酸エステル類の製造方法。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1):【化1】(式中、R1、R2はそれぞれ独立して、水素原子または有機残基を表す)で表されるα-ヒドロキシアルキルアクリル酸エステル類を、不斉水素化反応させることを特徴とする、下記一般式(2):【化2】(式中R1、R2はそれぞれ独立して、水素原子または有機残基を表し、*は不斉炭素を表す)で表される光学活性な3-ヒドロキシイソブタン酸エステル類の製造方法。

IPC (6)：

C07C 69/675 ,  B01J 31/24 ,  C07C 67/303 ,  C07C 67/62 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (5)：

C07C 69/675 ,  B01J 31/24 Z ,  C07C 67/303 ,  C07C 67/62 ,  C07B 61/00 300

F-Term (13)：

4H006AA02 ,  4H006AC11 ,  4H006AC81 ,  4H006BA22 ,  4H006BA23 ,  4H006BA24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA53 ,  4H006BE20 ,  4H006BN10 ,  4H006BS10 ,  4H039CA19 ,  4H039CB10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• アリルエーテル類の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-061431   Applicant：株式会社日本触媒

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• J. Org. Chem., 1988, Vol.53, p.708-710
• Tetrahedron Letters, 1995, Vol.36, No.41, p.7423-7426
• J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1985, p.578-579