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J-GLOBAL ID：200903080038014055

レジスト組成物

Inventor： 尾家 正行 ,  阿部 信紀
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993097140
Publication number (International publication number)：1994289615
Application date： Mar. 30, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。【構成】 分子鎖中に、下記一般式(I)及び一般式(II)で示される構造単位を有する共重合体、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R2は、酸素原子に結合する3級の炭素原子を有する有機基である。)【化2】(式中、R3は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R4は、炭素数7〜16の環状構造を有するアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、または置換アルケニル基である。)

Claim (excerpt)：

分子鎖中に、下記一般式(I)及び一般式(II)で示される構造単位を有する共重合体(A)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(B)を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R2は、酸素原子に結合する3級の炭素原子を有する有機基である。)【化2】(式中、R3は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R4は、炭素数7〜16の環状構造を有するアルキル基、炭素数7〜16の環状構造を有する置換アルキル基、炭素数7〜16の環状構造を有するアルケニル基、または炭素数7〜16の環状構造を有する置換アルケニル基である。)

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027