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J-GLOBAL ID：200903080072162020

プラズマ成膜装置およびそのクリーニング方法

Inventor： 藤井 浩司
Applicant, Patent owner： シチズン時計株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996086262
Publication number (International publication number)：1997272979
Application date： Apr. 09, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は生産効率を下げることなく効果的なクリーニングが達成できるプラズマ成膜装置およびそのクリーニング方法を提供することである。【解決手段】本発明のプラズマ成膜装置においては、真空槽内には槽内壁に防着板を設け、防着板を絶縁碍子等を用いて槽壁と分離させ、電気的に独立の状態とし、防着板に電圧を印加してプラズマクリーニングを行うことが可能な構成である。

Claim (excerpt)：

プラズマを形成して薄膜を成膜し、かつ真空槽の槽内壁のクリーニングをプラズマを用いて行うプラズマ成膜装置であって、前記真空槽の槽内壁には該槽内壁の要部を全覆するように防着板が設けられ、該防着板を電極としてプラズマを発生させるために防着板を槽内壁と電気的に分離、あるいは結合するためのスイッチング手段を有することを特徴とするプラズマ成膜装置。

IPC (5)：

C23C 16/50 ,  C23C 14/00 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205

FI (5)：

C23C 16/50 ,  C23C 14/00 B ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/203 M ,  H01L 21/205