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J-GLOBAL ID：200903080077148743

基板処理装置

Inventor： 宮城 智彦 ,  伊藤 健一 ,  玉井 克典
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999088132
Publication number (International publication number)：2000286228
Application date： Mar. 30, 1999
Publication date： Oct. 13, 2000
Summary：

【要約】【課題】 処理時間をその処理内容に応じて短くすることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 リフターLH2は、受渡位置、液面位置および処理位置の間で鉛直方向に昇降する。この受渡位置と処理位置との間がリフターLH2の移動可能範囲である。搬送ロボットTRは処理槽MBの上方にて基板Wを水平方向に搬送することができる。また、蓋58は処理槽MBの上端部を開閉することができる。浸漬処理が開始された後の搬送ロボットTRや蓋58の動作が終了する前に当該浸漬処理が終了する予定のときは、リフターLH2が処理槽MBへの基板Wの搬入を終了してから当該基板Wの搬出を開始するまでの間は、少なくとも干渉領域IF1における搬送ロボットTRの動作および少なくとも干渉領域IF2における蓋58の動作を回避させる。

Claim (excerpt)：

基板に所定の処理を行う処理部と、基板を保持して前記処理部に当該基板を搬入するとともに前記処理部から当該基板を搬出する搬出入手段と、前記搬出入手段の移動可能範囲のいずれかに前記搬出入手段が位置するときに、その動作が前記搬出入手段と干渉する動作手段と、を備える基板処理装置において、前記搬出入手段が前記処理部への基板の搬入を終了してから当該基板の搬出を開始するまでの間は前記干渉が生じる干渉領域における前記動作手段の動作を回避させるように前記動作手段を制御する制御手段を、を設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/306 J ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/68 A

F-Term (17)：

5F031CA01 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA09 ,  5F031GA10 ,  5F031GA15 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA73 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F043DD23 ,  5F043DD30 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 洗浄処理装置およびその制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-214118   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

Cited by examiner (1)

• 洗浄処理装置およびその制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-214118   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社