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J-GLOBAL ID:200903080092655309

イオン化装置およびこれを用いた質量分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鹿島 義雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003335002
Publication number (International publication number):2005098909
Application date: Sep. 26, 2003
Publication date: Apr. 14, 2005
Summary:
【課題】 試料の微細領域に対してソフトなイオン化を行うことができるイオン化装置およびこれを用いた質量分析装置を提供する。【解決手段】 イオン化部11と質量分析部12とを備えた質量分析装置であって、イオン化部11は、導電性材料の探針20と、レーザ光源40とを有し、探針先端21が試料の測定部位に向けられるとともに、レーザ光源40は探針先端21にレーザ光を照射して測定部位に近接場光を発生するように取り付けられ、測定部位の試料31を近接場光で励起することでイオン化し、質量分析部12に導く。【選択図】図1
Claim (excerpt):
導電性材料で形成され又は導電性材料でコーティングされた探針とレーザ光源とを有し、 探針先端が試料の測定部位に近傍に設置されるとともに、レーザ光源は探針先端にレーザ光を照射して測定部位に近接場光を発生するように取り付けられ、 測定部位の試料を近接場光で励起することにより試料をイオン化することを特徴とするイオン化装置。
IPC (4):
G01N27/64 ,  G01N27/62 ,  H01J49/10 ,  H01J49/26
FI (4):
G01N27/64 B ,  G01N27/62 Y ,  H01J49/10 ,  H01J49/26
F-Term (10):
5C038GG04 ,  5C038GG07 ,  5C038GG11 ,  5C038GH10 ,  5C038GH11 ,  5C038GH13 ,  5C038GH15 ,  5C038HH02 ,  5C038HH23 ,  5C038HH26
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • MALDI-TOF質量分析装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-158866   Applicant:株式会社島津製作所
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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