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J-GLOBAL ID：200903080103118483

レーザプラズマ極紫外光源及びレーザプラズマ極紫外光線の発生方法

Inventor： ロイ・ディー・マクグレガー ,  マイケル・ビー・ペタッチ ,  ロッコ・エイ・オーシニ
Applicant, Patent owner： ティーアールダブリュー・インコーポレーテッド
Agent (1)： 社本 一夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001252453
Publication number (International publication number)：2002174700
Application date： Aug. 23, 2001
Publication date： Jun. 21, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】プラズマ標的材料に対するより大きい液滴を発生させるレーザプラズマEUV光源を提供する。【解決手段】EUV光源50は、ガスをノズルに強制的に通すことに代えて、液体58、好ましくは液体キセノンをノズル64に強制的に通す。ノズル64の幾何学的形状及びノズル64を通る液体58の圧力は、液体58を噴霧して高密度の液滴72のスプレー70を形成する。液滴72は液体から形成されるから、これら液滴の寸法は大きく、EUV光線をより発生させ易い。ノズル64に強制的に通す前に、ガス状キセノン54を液体58に変換するため凝縮器60が使用される。

Claim (excerpt)：

レーザプラズマ極紫外(EUV)光源において、液体プラズマ標的材料を提供する標的供給装置と、供給端部と、出口端部と、該供給端部と出口端部との間の狭隘な喉状部分とを有するノズルであって、該供給端部が標的供給装置から液体を受け取り、出口端部を通して液滴のスプレーを放出するノズルと、レーザビームを液滴のスプレーに向けて放出するレーザビーム源であって、液滴を加熱し且つEUV光線を発生させるレーザビーム源とを備える、光源。

IPC (6)：

G21K 5/00 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/00 ,  G21K 5/08 ,  H01L 21/027 ,  H05H 1/24

FI (7)：

G21K 5/00 Z ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/00 Z ,  G21K 5/08 Z ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/30 515 A ,  H01L 21/30 531 S

F-Term (7)：

2H097CA01 ,  2H097CA15 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046CA03 ,  5F046CA07 ,  5F046GC03