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J-GLOBAL ID：200903080140486590

ポリシロキサンを製造する方法及びそれを含むフォトレジスト組成物

Inventor： ジョージ・ジー・バークレー ,  スバラディ・カナガサバパシー ,  マシュー・エー・キング
Applicant, Patent owner： シップレーカンパニー エル エル シー
Agent (3)： 千田 稔 ,  辻永 和徳 ,  橋本 幸治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003054512
Publication number (International publication number)：2004038142
Application date： Feb. 28, 2003
Publication date： Feb. 05, 2004
Summary：

【課題】高解像性で耐熱性のポリシロキサン(シルセスキオキサン)の合成についての新規な方法及びそれを含むフォトレジストの開発。【解決手段】ヒドロキシ・アルコキシ又はハロで置換されたシランを多反応性窒素基を有する重合テンプレート試薬、特にジアミン試薬の存在下で重合させた,フォト酸レイビル基をもつポリシロキサンとこれにフォト活性成分を混合したフォトレジストの提供。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

a)多反応性窒素部位を有する化合物の存在下で1以上の反応性シラン化合物を重合してシロキサンポリマーを提供し;及びb)該ポリマーをフォト活性成分と混合させることを含む、フォトレジスト組成物を調製する方法。

IPC (3)：

G03F7/075 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3)：

G03F7/075 511 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (12)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41