ポジ型レジスト組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：諸石光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991316500
Publication number (International publication number)：1993034919
Application date： Nov. 29, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】感度、耐熱性、塗布性等の諸性能を維持したまま、γ値が高く、且つ優れたプロファイル及び焦点深度を有するポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 γ-ブチロラクトン、3-メトキシブタノール及びシクロヘキサノンの中から選ばれる1種又は2種以上の有機溶媒(B) 並びに分子内にアルキルカルボニル基及びアルコキシ基を双方同時に有さず、且つ大気圧下での沸点が140 乃至180 °Cである、上記(B) 以外の有機溶媒(A) を含む溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

γ-ブチロラクトン、3-メトキシブタノール及びシクロヘキサノンの中から選ばれる1種又は2種以上の有機溶媒(B) 並びに、分子内にアルキルカルボニル基及びアルコキシ基を双方同時に有さず、且つ大気圧下での沸点が140 乃至180°Cである、上記(B) 以外の有機溶媒(A) を含む溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭62-251739
特開昭62-194249
特開平1-289947

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