Pat
J-GLOBAL ID：200903080148893402

粒子線治療システム

Inventor：
齋藤 一義

About 齋藤 一義

, 
櫻畠 広明

About 櫻畠 広明


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (2)： 井上 学 ,  戸田 裕二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007288002
Publication number (International publication number)：2009112483
Application date： Nov. 06, 2007
Publication date： May. 28, 2009
Summary：
【課題】 スポットスキャニング法などの高精度な粒子線治療に好適な照射ビームを実現する。【解決手段】 上記課題を達成するための粒子線治療システムは、荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、安定限界を越えた前記荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、前記シンクロトロンから出射した前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、前記シンクロトロンを周回する前記荷電粒子ビームの一部を除去した後、周回する他の前記荷電粒子ビームを前記シンクロトロンから出射して前記照射装置に輸送するように制御する制御装置を有する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、安定限界を越えた前記荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、 前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、 前記シンクロトロンから出射した前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、 前記シンクロトロンを周回する前記荷電粒子ビームの一部を除去した後、周回する他の前記荷電粒子ビームを前記シンクロトロンから出射して前記照射装置に輸送するように制御する制御装置を有することを特徴とする粒子線治療システム。
IPC (2)：
A61N 5/10 ,  H05H 13/04
FI (5)：
A61N5/10 H ,  A61N5/10 P ,  H05H13/04 N ,  H05H13/04 E ,  H05H13/04 G
F-Term (20)：
2G085AA13 ,  2G085BA13 ,  2G085BA15 ,  2G085BA20 ,  2G085BC15 ,  2G085CA05 ,  2G085CA24 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG02 ,  4C082AG05 ,  4C082AG09 ,  4C082AG13 ,  4C082AG27 ,  4C082AN01 ,  4C082AN05 ,  4C082AP11 ,  4C082AR01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 特許2833602号公報
  • 特許3874766号公報
  • 特許2596292号公報
Cited by examiner (1)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM