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J-GLOBAL ID：200903080159107360

膜形成用組成物、膜の形成方法および多孔質膜

Inventor： 後藤 幸平 ,  秋池 利之 ,  今野 圭二 ,  柴 唯啓
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998135784
Publication number (International publication number)：1999323256
Application date： May. 18, 1998
Publication date： Nov. 26, 1999
Summary：

【要約】【目的】 密着性、塗膜の均一性等に優れた、低誘電率膜形成用組成物、該組成物を硬化して得られる多孔質膜に関する。【構成】 (A)下記一般式(1)で表されるアルキルアルコキシランの加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)(B)耐熱性重合体(C)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物およびそれを硬化してなる多孔質膜。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される化合物の加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)(B)耐熱性重合体(C)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (6)：

C09D183/04 ,  B05D 7/24 302 ,  C08J 9/26 102 ,  C09D 7/12 ,  C09D165/02 ,  C09D179/08

FI (6)：

C09D183/04 ,  B05D 7/24 302 Y ,  C08J 9/26 102 ,  C09D 7/12 Z ,  C09D165/02 ,  C09D179/08 Z