薄膜の膜厚測定方法および測定装置ならびに光学フィルターの製造方法ならびに高分子フィルムの製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994072238
Publication number (International publication number)：1995280520
Application date： Apr. 11, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】薄膜の着色や複屈折によって前記薄膜による干渉光の分光強度が歪む場合であっても、かかる歪みの影響を排し、光干渉式で前記薄膜の膜厚を精度良く測定することができる、薄膜の膜厚測定方法および測定装置ならびにかかる薄膜の膜厚測定方法を用いて工程を管理する光学フィルターの製造方法および高分子フィルムの製造方法製造方法を提供すること。【構成】本発明の薄膜の膜厚測定方法によれば、測定対象の薄膜材料の波長選択透過性を用いて測定対象の薄膜による干渉光の分光強度を補正することにより、精度良く膜厚を測定することができる。

Claim (excerpt)：

白色光を薄膜に照射し、前記白色光の前記薄膜による干渉光の分光強度を測定し、前記薄膜の材料の分光透過特性により前記測定された分光強度を補正し、前記補正された分光強度に基づいて前記薄膜の膜厚を算出することを特徴とする薄膜の膜厚測定方法。

IPC (2)：

G01B 11/02 , G02B 5/20 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平4-009704
特開昭62-073103
特開昭61-246607

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