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J-GLOBAL ID：200903080204577187

光学部品の洗浄方法

Inventor： 松浦 恵二
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998236201
Publication number (International publication number)：2000066003
Application date： Aug. 24, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】被洗浄物が十分に洗浄され、かつ再汚染されず、被洗浄物表面の温度上昇がきわめて少ない光洗浄装置を提供する。【解決手段】所定の空間内で光学部品を紫外線照射により光洗浄する光学部品の洗浄方法において、所定の空間内のオゾン濃度が10ppm〜100ppmであることを特徴とする光学部品の光洗浄方法。

Claim (excerpt)：

所定の空間内で光学部品を紫外線照射により光洗浄する光学部品の洗浄方法において、所定の空間内のオゾン濃度が10ppm〜100ppmであることを特徴とする光学部品の光洗浄方法。

IPC (2)：

G02B 1/10 ,  B08B 3/10

FI (2)：

G02B 1/10 Z ,  B08B 3/10 Z

F-Term (13)：

2K009BB02 ,  2K009DD00 ,  2K009DD05 ,  2K009DD12 ,  3B201AA03 ,  3B201AB02 ,  3B201AB44 ,  3B201BC01 ,  3B201CA01 ,  3B201CB21 ,  3B201CD11 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43