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J-GLOBAL ID：200903080262501816

フォトレジスト塗布前処理装置

Inventor： 山本 達則
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992165214
Publication number (International publication number)：1994005505
Application date： Jun. 24, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】レジスト塗布前処理装置の密閉式チャンバー内において、薬液雰囲気の濃度及び圧力変化によるレジストの密着性変化を防ぐ。【構成】レジスト塗布前のウェハ1を密閉式チャンバー3に収納し薬液雰囲気配管5により薬液雰囲気を送気する。チャンバー上部に設置した濃度センサー12によりチャンバー内の薬液雰囲気濃度を測定し、濃度制御回路11で合流する窒素の流量をマスフローコントローラ14を制御する。また、圧力センサー17により密閉式チャンバー内の圧力を測定し、圧力制御回路16で排気配管4の途中に設けられた可変流量制御弁15を制御する。

Claim (excerpt)：

半導体基板を収納する密閉式チャンバーと、バブリング機能を備えた薬液容器によりフォトレジスト塗布前処理用の薬液の雰囲気を発生させ密閉式チャンバー内に送気する機構と、この送気薬液雰囲気の濃度制御を行う機構と、密閉式チャンバー内の圧力制御を行う機構とを具備することを特徴とするフォトレジスト塗布前処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16