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J-GLOBAL ID：200903080268183816

ナノ空孔周期配列体の作製方法及びその装置

Inventor： 兼平 真悟 ,  藤田 晃司 ,  平尾 一之 ,  司 金海 ,  邱 建栄
Applicant, Patent owner： 国立大学法人京都大学
Agent (1)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005056721
Publication number (International publication number)：2006239718
Application date： Mar. 01, 2005
Publication date： Sep. 14, 2006
Summary：

【課題】 ガラス等の無機非晶質材料に対して微細構造を効率的かつ精度よく作製する方法及びその利用を提供する。【解決手段】 透明材料に対して、フェムト秒レーザパルス等の超短パルスレーザを集光照射して、当該透明材料に周期的な微細構造を作製する微細構造作製方法であって、上記超短パルスレーザを、上記透明材料内部にフィラメントが形成されるように、かつ、上記フィラメントが上記透明材料の底部に到達するように、照射する工程を含む微細構造作製方法によれば、ガラス等の透明材料に対して微細構造を効率的かつ精度よく作製することができる。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

超短パルスレーザの波長に対して透明な材料に、超短パルスレーザを集光照射して、当該透明材料に周期的な微細構造を作製する微細構造作製方法であって、 上記超短パルスレーザを、 上記透明材料内部にフィラメントが形成されるように、 かつ、上記フィラメントが上記透明材料の端面に到達するように、照射する工程を含むことを特徴とする微細構造作製方法。

IPC (4)：

B23K 26/38 ,  B23K 26/40 ,  C03C 23/00 ,  G02B 1/02

FI (4)：

B23K26/38 330 ,  B23K26/40 ,  C03C23/00 D ,  G02B1/02

F-Term (5)：

4E068AF01 ,  4E068CA03 ,  4E068DB10 ,  4G059AA11 ,  4G059AC01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• フェムト秒レーザー照射による周期微細構造の作成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-248433   Applicant：科学技術振興事業団