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J-GLOBAL ID：200903080272901529

皮膚洗浄料

Inventor： 中間 康成 ,  永澤 洋子 ,  山口 道広
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991276730
Publication number (International publication number)：1993017342
Application date： Sep. 27, 1991
Publication date： Jan. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】洗浄中肌がべたつかず、乾燥後肌がかさつかず、適度な粘性を持ち、かつ安定性に優れた皮膚洗浄料を提供することを目的とする。【構成】本発明の皮膚洗浄料は、陰イオン性界面活性剤と、両性界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤と、高級脂肪酸とを含有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

(I)陰イオン性界面活性剤の一種又は二種以上と、(II)両性界面活性剤及び半極性界面活性剤からなる群から選ばれる一種又は二種以上と、(III)下記一般式R1COOH(ここでR1は、平均炭素数7〜25の直鎖又は分岐鎖又は水酸基を有する飽和、不飽和炭化水素である。)で表される高級脂肪酸の一種又は二種以上とを含有することを特徴とする皮膚洗浄料。

IPC (7)：

A61K 7/50 ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/83 ,  C11D 1/94 ,  C11D 3/20 ,  C11D 1:75 ,  C11D 1:29

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-103522
  
• 特開平2-218797
  
• 特開昭62-025197