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J-GLOBAL ID：200903080280167745
多成分系薬液処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
栂村 繁郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991233717
Publication number (International publication number)：1993129274
Application date： Aug. 22, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)[目的]半導体製造過程において用いる多成分系薬液処理装置の薬液の組成管理を自動化して正確に行う。[構成]薬液の液面レベルを検知する液面レベルセンサー、薬液の導電率を検知する導電率センサー、ワークの処理数をカウントするワーク処理数カウンターを設け、これらセンサー/カウンターからの情報に基づいて制御機構により補給すべき薬液の種類、量を算出し、処理槽に補給するようにする。
Claim (excerpt)：
多成分系の薬液を用いる薬液処理装置において、薬液の導電率、薬液の液面レベル、ワーク処理数をそれぞれ検知するセンサー及びカウンターを処理槽に付設すると共にこれらセンサーから送られるデータにより補給を要する液薬及びその量を算出し、薬液を適宜処理槽に供給する制御機構を備えた多成分系薬液処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 341
