ホログラム作成装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998102740
Publication number (International publication number)：1999296057
Application date： Apr. 14, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】少数の要素ホログラムからなり忠実に物体を再生することができるホログラムを作成するホログラム作成装置を提供する。【解決手段】空間光変調素子10に入射したレーザ光は、空間光変調素子10に表示された計算機ホログラムに基づいて振幅または位相が変調され、凸レンズ11により収斂されて、感光材料60のうちのマスク12の開口部分に局所成分波面として入射する。この局所成分波面は、仮想物体から生じた波面の一部であり、ミラー24およびミラー41の何れか一方から入射した参照光と干渉して、要素ホログラムが作成される。そして、感光材料60上に要素ホログラムが逐次作成され、感光材料60上の広い範囲にホログラムが作成される。

Claim (excerpt)：

ホログラムを作成すべき感光材料上の複数の一定領域それぞれについて、仮想物体から生じた波面のうちの局所成分波面と参照光とを前記一定領域で干渉させて前記一定領域に要素ホログラムを作成し、前記ホログラムを作成するホログラム作成装置であって、計算機ホログラムを表示し、入射した光に対して振幅および位相の双方を前記計算機ホログラムに基づいて変調して出力する空間光変調素子と、前記空間光変調素子により変調された光を入力し、その光を収斂する凸レンズと、前記凸レンズの後焦点面に配される前記感光材料の前面に密接して配され、前記凸レンズから到達した光を通過させる開口を有し、その開口を通過した光を前記感光材料上の前記一定領域に前記局所成分波面として入射させるマスクと、を備え、前記空間光変調素子の画素間隔をSPとし、前記凸レンズの焦点距離をfとし、前記光の波長をλとしたときに、前記マスクの開口は各辺の長さがλ・f/SP以下であって光軸上に中心を有する長方形または正方形であることを特徴とするホログラム作成装置。

IPC (2)：

G03H 1/26 , G03H 1/08

FI (2)：

G03H 1/26 , G03H 1/08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

特開昭55-041480
特開昭47-045240
特開昭59-050480

Show all

Return to Previous Page