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J-GLOBAL ID:200903080315697149

合金組成物およびめっき方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 千田 稔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000309776
Publication number (International publication number):2001158990
Application date: Oct. 10, 2000
Publication date: Jun. 12, 2001
Summary:
【要約】【課題】 合金組成物およびめっき方法を提供する。【解決手段】 錫-銅合金を基体上に堆積するための電解質組成物であって、該組成物は5〜100g/Lの錫、0.01〜10g/Lの銅、1以上の酸性電解質、および任意に1以上の添加剤を含み、実質的に鉛を含まないものである前記電解質組成物が開示される。
Claim (excerpt):
錫-銅合金を基体上に堆積するための電解質組成物であって、該組成物は5〜100g/Lの錫、0.01〜10g/Lの銅、1以上の酸性電解質、および任意に1以上の添加剤を含み、実質的に鉛を含まないものである前記電解質組成物。
IPC (3):
C25D 3/60 ,  C25D 7/00 ,  C25D 7/12
FI (4):
C25D 3/60 ,  C25D 7/00 G ,  C25D 7/00 J ,  C25D 7/12

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