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J-GLOBAL ID：200903080317457714

誘導結合プラズマの空間分布制御方法及びこの方法を実施するためのプラズマ発生装置及びエッチング装置

Inventor： 佐々木 貴英 ,  林 厚 ,  原島 紀幸 ,  池田 均
Applicant, Patent owner： アルバック成膜株式会社 ,  株式会社アルバック
Agent (1)： 八木田 茂 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000212528
Publication number (International publication number)：2002033306
Application date： Jul. 13, 2000
Publication date： Jan. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】広い面積でもエッチング速度を均一にできるプラズマの空間分布制御方法を提供する。【解決手段】少なくとも二重のループ状アンテナを用いて真空チャンバー内に放電プラズマを発生する際に、隣接したループ状アンテナの直径上対向した部位間の中間部位を被処理物の面に平行に維持しながら、直径上対向した部位の一方の間隔に対して直径上対向した部位の他方の間隔を連続的に変化させることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

少なくとも二重のループ状アンテナを用いて真空チャンバー内に放電プラズマを発生する際に、隣接したループ状アンテナの直径上対向した部位間の中間部位を被処理物の面に平行に維持しながら、直径上対向した部位の一方の間隔に対して直径上対向した部位の他方の間隔を連続的に変化させることを特徴する誘導結合プラズマの空間分布制御方法。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (4)：

B01J 19/08 E ,  C23F 4/00 C ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B

F-Term (27)：

4G075AA30 ,  4G075CA05 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075EE02 ,  4K057DA11 ,  4K057DA16 ,  4K057DB06 ,  4K057DB20 ,  4K057DD03 ,  4K057DD08 ,  4K057DG16 ,  4K057DM06 ,  4K057DM17 ,  4K057DM22 ,  4K057DM23 ,  4K057DM28 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB07 ,  5F004BB13 ,  5F004CA05 ,  5F004DA04 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-101632   Applicant：アネルバ株式会社
• 反応性イオンエッチング装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-193951   Applicant：日本真空技術株式会社