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J-GLOBAL ID：200903080332819134

高速オゾン処理装置

Inventor：
前田 洋輔

About 前田 洋輔


Applicant, Patent owner：
株式会社タクマ

About 株式会社タクマ


Agent (1)： 杉浦 俊貴 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994086773
Publication number (International publication number)：1995289620
Application date： Apr. 25, 1994
Publication date： Nov. 07, 1995
Summary：
【要約】【目的】 オゾンによる脱臭処理を高速で行うことができ、未反応オゾンを短時間で消滅させるような高速オゾン処理装置を提供する。【構成】 オゾン発生装置1,発生したオゾンを室内で循環させるための室内循環用ファン2,10μm以下のミストを発生させる二流体ノズル3,二流体ノズルに圧縮空気を供給するコンプレッサ4,二流体ノズル3に水を供給する水タンク5,水タンク5から二流体ノズル3への配管途中に設けられる電磁弁6,コンプレッサ4から二流体ノズル3への配管途中の設けられる電磁弁7,制御部8,湿度センサ9,オゾンセンサ10,制御タイマ11を備えてなる。
Claim (excerpt)：
オゾンによる酸化分解により処理すべき成分が存在している室内にオゾンを供給するためのオゾン発生装置と、オゾンが室内に供給された後に室内にミストを供給するためのミスト発生装置とを備えることを特徴とする高速オゾン処理装置。
IPC (3)：
A61L 9/015 ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/74
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • 特開昭60-234666
  • 特開昭63-059961
  • 特開昭64-032866
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