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J-GLOBAL ID：200903080337135446

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

Inventor： 阿出川 豊
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001114335
Publication number (International publication number)：2002311585
Application date： Apr. 12, 2001
Publication date： Oct. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】 電子線またはX線を使用するミクロファブリケーション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、電子線またはX線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足し、更にPBD安定性が優れた電子線またはX線用ネガ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定の繰り返し単位を構成成分として含有するアルカリ可溶性樹脂、酸により架橋する架橋剤、電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物、及びフッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤、を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を構成成分として含有するアルカリ可溶性樹脂(B)酸により架橋する架橋剤、及び(C)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物(D)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。【化1】一般式(1)において、R101は、水素原子あるいはメチル基あるいはエチル基を表す。Lは二価の連結基を表す。Ra、Rbはそれぞれ独立に、炭素数1から12の直鎖状、分岐状、あるいは、環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、あるいは水素原子を表す。Rc、Rdはそれぞれ独立に、炭素数1から12の直鎖状、分岐状、あるいは、環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、あるいはアラルキル基を表す。また、これらは互いに連結して炭素数24以下の5員以上の環を形成しても良い。l、mは0〜3までの整数を表し、l+m≦4、を満たす。p、qは0〜3までの整数を表し、p+q≦4、l+m+p+q≦7、を満たす。

IPC (9)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/038 501 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (9)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/038 501 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (33)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB06 ,  2H025CB42 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC131 ,  4J002BE041 ,  4J002BG071 ,  4J002CP032 ,  4J002EB107 ,  4J002EJ016 ,  4J002EJ026 ,  4J002EJ036 ,  4J002EJ066 ,  4J002EP016 ,  4J002EQ017 ,  4J002EV297 ,  4J002EV357 ,  4J002EW177 ,  4J002FD146 ,  4J002FD312 ,  4J002FD318 ,  4J002GP03