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J-GLOBAL ID：200903080360022934

洗浄装置及び洗浄方法

Inventor： 山崎 和俊 ,  古野 喜彦
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001336589
Publication number (International publication number)：2003142449
Application date： Nov. 01, 2001
Publication date： May. 16, 2003
Summary：

【要約】【課題】 一旦洗浄に用いたオゾン水を再利用することができ、また、新たな基板等のセットの間も装置を停止する必要がなく、効率的な洗浄作業を行うことができる基板の洗浄やレジストの剥離に用いる洗浄装置を提供する。【解決手段】 装置内を循環するオゾン水により基板の洗浄又はレジストの剥離を行う洗浄装置であって、オゾン水循環ライン中にオゾン水の貯蔵槽を有する洗浄装置、及び、該洗浄装置を用いて基板の洗浄又はレジストの剥離を行う洗浄方法。

Claim (excerpt)：

装置内を循環するオゾン水により基板の洗浄又はレジストの剥離を行う洗浄装置であって、オゾン水循環ライン中にオゾン水の貯蔵槽を有することを特徴とする洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08

FI (3)：

H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/08 Z

F-Term (6)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201BB89 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CD22