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J-GLOBAL ID：200903080373889724

ガス分離膜用支持体、ガス精製用構造体及びガス精製装置

Inventor： 関 務 ,  安田 勇
Applicant, Patent owner： 東京瓦斯株式会社
Agent (1)： 加茂 裕邦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998131296
Publication number (International publication number)：1999300172
Application date： Apr. 24, 1998
Publication date： Nov. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】構造簡単で且つガス分離膜の位置決め等も容易なガス分離膜用支持体、ガス精製用構造体及びガス精製装置を得る。【解決手段】上下に貫通した開口を有し且つその内面の厚み方向中央部に凸部を備えた枠体中に、枠体と同じ材質の上下対称の1対の多孔質部材を枠体の上下開口から嵌挿して該1対の部材の相対する面が当接するように配置するとともに、多孔質板体内にガス通路を設けてなることを特徴とするガス分離膜用支持体、これを用いたガス精製用構造体及びガス精製装置。

Claim (excerpt)：

上下に貫通した開口を有する枠体中に枠体と同じ材質の多孔質板体を配置するとともに、多孔質板体内にガス通路を設けてなることを特徴とするガス分離膜用支持体。

IPC (4)：

B01D 63/00 510 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/10 ,  C01B 3/56

FI (4)：

B01D 63/00 510 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/10 ,  C01B 3/56 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 膜モジュール
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-107458   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• 水素分離膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-023748   Applicant：三菱重工業株式会社
• 特開昭49-045465
  
• 特開昭61-216713