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J-GLOBAL ID:200903080393163908

ヘテロ接合バイポーラトランジスタ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991179357
Publication number (International publication number):1993029331
Application date: Jul. 19, 1991
Publication date: Feb. 05, 1993
Summary:
【要約】【目的】 耐熱性に優れたヘテロ接合バイポーラトランジスタを提供することにある。【構成】 ヘテロ接合バイポーラトランジスタにβ-SiC層から成るベース領域とα-SiC層から成るエミッタ領域を有する。
Claim (excerpt):
β-SiC層から成るベース領域とα-SiC層から成るエミッタ領域とを有するヘテロ接合バイポーラトランジスタ
IPC (3):
H01L 21/331 ,  H01L 29/73 ,  H01L 29/167
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平2-238631

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