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J-GLOBAL ID：200903080402748370
パターンマスクの作製方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
鈴木 敏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992335872
Publication number (International publication number)：1994186724
Application date： Dec. 16, 1992
Publication date： Jul. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、主としてプリント基板の回路パターン形成のためのパターンマスク(原板)の作成方法に関するもので、パターン密度に応じたパターン幅に容易に補正できるようにすることを目的とする。【構成】 本発明の実施例としては、レーザービームプロッターを使用し、入力した作画データをラスター変換して、そのラスター変換データを補正してから、レーザービーム照射をし、基板1上のパターン2の密度(間隙Bの違い)に応じた例えばレジストパターン3の幅1を最適値にするようにしたものである。
Claim (excerpt)：
パターンマスクの作画データを入力後、所定ピッチの画素に分解するラスター変換を行ない、該ラスターデータに、パターン間隙ごとに与えられている補正データを反映させることにより、パターンの作製を行なうパターンマスクの作製方法。
IPC (2)：
G03F 1/00
, B23K 26/00 320
