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J-GLOBAL ID：200903080419231435

マスクの異物除去装置

Inventor： 塚本 雅美 ,  雨宮 光陽
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996064122
Publication number (International publication number)：1997260245
Application date： Mar. 21, 1996
Publication date： Oct. 03, 1997
Summary：

【要約】【課題】 マスクの洗浄をなくし、修正などの回数を低減し、マスクの使用効率を向上させる。また、露光装置内で積極的に異物を除去することにより、スループットを向上させる。【解決手段】 例えば、X線マスク上の異物を、帯電あるいは誘電分極させることによって除去する。具体的には、X線マスクのマスクパターンに対向する位置に電極を設け、異物を停電させるかあるいは分極させることによってマスクから除去する。

Claim (excerpt)：

光、電子線、放射線等を用いて所望の回路パターンをウエハ上に転写する露光に用いられる露光用マスクおいて、露光用マスクに付着した異物を帯電させる手段または分極させる手段を具備してなる露光用マスクの異物除去装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/66

FI (3)：

H01L 21/30 503 G ,  G03F 1/08 X ,  H01L 21/66 J