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J-GLOBAL ID：200903080420391128
X線露光用マスク
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
松本 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992315430
Publication number (International publication number)：1994163368
Application date： Nov. 25, 1992
Publication date： Jun. 10, 1994
Summary：
【要約】【目的】 機械的強度が大きく、かつX線に対する吸収が小さく、さらに、歪の小さいX線露光用マスクを提供する。【構成】 酸化シリコン膜13を窒化シリコン膜12,14ではさんでなる積層膜を支持膜とする薄膜ブリッジを備え、このブリッジ上にX線吸収体19が設けられているX線露光用マスク。
Claim (excerpt)：
酸化シリコン膜を窒化シリコン膜ではさんでなる積層膜を支持膜とする薄膜ブリッジを備え、このブリッジ上にX線吸収体が設けられているX線露光用マスク。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, H01L 21/318
