微粒子薄膜の製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川一 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001086827
Publication number (International publication number)：2002286962
Application date： Mar. 26, 2001
Publication date： Oct. 03, 2002
Summary：

【要約】【解決手段】蒸気圧及び表面張力を異にする2種以上の液体を含有し、かつ均一組成を有する液体混合物から成る媒質中に、凝集相微粒子を分散し、該微粒子分散液を基板表面上に流延して液膜を形成させ、該液膜から前記媒質の一部を気化除去することにより、該微粒子を該基板表面に単層もしくは複数層に展開する。【発明の効果】本発明の微粒子薄膜の製造方法により、微粒子を基板上に六方晶格子状又は正方晶格子状に規則的に配列することが極めて高速に行われる。かかる微粒子薄膜はフォトクロミック結晶材料として光導波路デバイスなど光学用途に有用である。

Claim (excerpt)：

蒸気圧及び表面張力を異にする2種以上の液体を含有し、かつ均一組成を有する液体混合物から成る媒質中に、凝集相微粒子を分散し、該微粒子分散液を基板表面上に流延して液膜を形成させ、該液膜から前記媒質の一部を気化除去することにより、該微粒子を該基板表面に単層もしくは複数層に展開することを特徴とする微粒子薄膜の製造方法。

IPC (6)：

G02B 6/13 , B01J 19/00 , B05D 1/18 , B05D 7/24 301 , C01B 33/12 , G02B 6/12

FI (7)：

B01J 19/00 K , B05D 1/18 , B05D 7/24 301 E , C01B 33/12 C , G02B 6/12 M , G02B 6/12 N , G02B 6/12 Z

F-Term (63)：

2H047KA03 , 2H047LA18 , 2H047PA06 , 2H047TA41 , 4D075AB03 , 4D075AB35 , 4D075AB56 , 4D075BB22X , 4D075BB24Z , 4D075BB93X , 4D075CA47 , 4D075CB01 , 4D075DA03 , 4D075DA06 , 4D075DB01 , 4D075DB13 , 4D075DB14 , 4D075DB18 , 4D075DB21 , 4D075DB31 , 4D075DC24 , 4D075EA06 , 4D075EA10 , 4D075EB01 , 4D075EB05 , 4D075EB13 , 4D075EB14 , 4D075EB22 , 4D075EB35 , 4D075EB37 , 4D075EB39 , 4D075EB44 , 4D075EB51 , 4D075EB57 , 4D075EC30 , 4D075EC51 , 4G072AA25 , 4G072BB05 , 4G072BB09 , 4G072BB10 , 4G072DD04 , 4G072DD05 , 4G072DD06 , 4G072EE01 , 4G072EE06 , 4G072EE07 , 4G072GG03 , 4G072HH14 , 4G072LL06 , 4G072LL11 , 4G072LL13 , 4G072LL14 , 4G072LL15 , 4G072MM21 , 4G072MM31 , 4G072NN21 , 4G072TT01 , 4G072UU30 , 4G075AA24 , 4G075BB02 , 4G075BB08 , 4G075CA02 , 4G075FB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

フォトニック結晶およびフォトニック結晶層付基材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-214165 Applicant：触媒化成工業株式会社, 谷口彬雄
実質的に三次元秩序を有する物品の作製のためのプロセス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-265145 Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレーテッド
フォトニック構造を有する周期構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-120192 Applicant：キヤノン株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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