Pat
J-GLOBAL ID:200903080457981340
排水の濾過方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岡田 敬 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001105575
Publication number (International publication number):2002052388
Application date: Nov. 15, 1999
Publication date: Feb. 19, 2002
Summary:
【要約】【課題】 従来、ダイシング等の機械的加工により発生する研磨屑、研削屑が混入された排水は、凝集沈殿法またはフィルタ濾過と遠心分離を組み合わせた二通りで処理されていた。しかし前者では、濾過水に薬品が混入し、濾過水の再利用が行えず、また後者は、システムとして大きくなり、イニシャルコスト、ランニングコストが高い問題を有していた。【解決手段】 高分子から成る第1のフィルタ膜31にSiを含んだ積層物となる第2のフィルタ膜36を形成し、Siまたはガラスの屑が入った排水を濾過する。第2のフィルタ36には、目詰まりを防止する気泡等の外力が与えられ、濾過能力を維持している。そのため、原水タンクの排水はその濃度を高くすることが出来る。
Claim (excerpt):
Siまたはガラスを主体とする固体を切削、研削または研磨し、発生したSiまたはガラスを主体とする固体から成る屑を水で流して排水を生成し、この排水を水と屑に分離する排水の濾過方法であり、前記排水を貯留する原水タンクには、高分子膜から成る第1のフィルタの全面にSiを含んだ固形物からなる積層物が形成された濾過装置が用意されると共に、前記積層物が前記排水で浸されており、前記濾過装置を介して前記排水を吸引することにより、前記積層物の表面に前記屑をトラップすると共に、前記積層物の表面に外力を与え、前記積層物の表面の固形物または/および前記屑を前記積層物から遊離されることにより前記積層物の表面をリフレッシュし、前記濾過装置から清浄された水を取り出し、前記原水タンクの排水濃度を高めることを特徴とした排水の濾過方法。
IPC (6):
C02F 1/44 ZAB
, B01D 36/02
, B01D 65/02 520
, B23Q 11/00
, B23Q 11/10
, B24B 55/03
FI (6):
C02F 1/44 ZAB E
, B01D 36/02
, B01D 65/02 520
, B23Q 11/00 U
, B23Q 11/10 Z
, B24B 55/03
F-Term (47):
3C011BB31
, 3C047FF06
, 3C047FF08
, 3C047FF09
, 3C047GG17
, 3C047GG18
, 4D006GA02
, 4D006HA93
, 4D006JA04A
, 4D006JA04B
, 4D006JA07A
, 4D006JA07B
, 4D006JA08A
, 4D006JA08B
, 4D006JA31A
, 4D006JA71
, 4D006KA01
, 4D006KA12
, 4D006KA43
, 4D006KA72
, 4D006KB14
, 4D006KC14
, 4D006KC17
, 4D006KC19
, 4D006KE02P
, 4D006KE02Q
, 4D006KE12P
, 4D006KE22Q
, 4D006KE23Q
, 4D006LA03
, 4D006MA02
, 4D006MA03
, 4D006MA04
, 4D006MA16
, 4D006MA21
, 4D006MA31
, 4D006MB02
, 4D006MC22
, 4D006PA01
, 4D006PB08
, 4D006PB20
, 4D006PB23
, 4D006PC01
, 4D066AB04
, 4D066BA03
, 4D066BB12
, 4D066BB20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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