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J-GLOBAL ID:200903080508627644

ドライ現像用感放射線性樹脂組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992270750
Publication number (International publication number):1994095376
Application date: Sep. 16, 1992
Publication date: Apr. 08, 1994
Summary:
【要約】【目的】 低いシリル化温度で良好なレジストパターンを形成することができる高感度ドライ現像用感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 ドライ現像用感放射線性樹脂組成物は、フェノール性水酸基含有樹脂、並びに式(1)で表される化合物を含有し、且つ組成物中に1,2-キノンジアジドスルホン酸エステル成分を含有する。R1-NH-R2 ・・・(1)〔ここで、R1およびR2は水素原子、 -SO2-R3基もしくは-CO-R4基(但し、R3およびR4は置換もしくは非置換のアルキル基あるいはアリール基である。)を示すか、または式(1)中の窒素原子とともに形成された環の構成単位を示すが、R1およびR2の一方が水素原子である場合は、他方は -SO2-R3基である。〕
Claim (excerpt):
フェノール性水酸基含有樹脂、並びに下記式(1)で表される化合物の群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有し、且つ組成物中に1,2-キノンジアジドスルホン酸エステル成分を含有することを特徴とするドライ現像用感放射線性樹脂組成物。R1-NH-R2 ・・・(1)〔式(1)において、R1およびR2は同一でも異なってもよく、水素原子、-SO2-R3基もしくは-CO-R4基(ここで、R3およびR4は1個以上のハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基あるいはシアノ基で置換されていてもよいアルキル基またはアリール基である。)を示すか、または式(1)中の窒素原子とともに形成された環の構成単位を示すが、R1およびR2の一方が水素原子である場合は、他方は -SO2-R3基である。〕
IPC (3):
G03F 7/022 ,  G03F 7/38 512 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平2-005060

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