Pat

J-GLOBAL ID：200903080542351585

乾燥処理装置及び乾燥処理方法

Inventor： 上川 裕二 ,  南 輝臣 ,  北原 重徳
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997269214
Publication number (International publication number)：1999083316
Application date： Sep. 17, 1997
Publication date： Mar. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 乾燥精度の向上及び乾燥ガス消費量の低減を図れるようにすること。【解決手段】 乾燥ガス供給管路32を介して乾燥処理部30と接続される乾燥ガス生成器41と、IPAタンク48と乾燥ガス生成器41とを接続するIPAの供給管路32に介設される流量調節用のダイヤフラムポンプ50と、乾燥ガス生成器41にN2ガスを供給するN2ガス供給源52と、乾燥ガス生成器41内に配設され、乾燥ガスを生成するヒーター44とを具備する。これにより、上記ダイヤフラムポンプ50にて乾燥ガス生成器41に供給されるIPAの量を調節して、乾燥ガス中に含まれるIPA濃度を3%〜80%の範囲内に維持できるようにし、また、ヒーター44の加熱によって、乾燥ガスの温度を80°C〜150°Cの範囲内に維持できるようにする。

Claim (excerpt)：

被処理体を収容する処理室を有する乾燥処理部と、有機溶剤と不活性ガスの混合部と、混合された有機溶剤と不活性ガスを加熱する加熱部とからなる乾燥ガス生成手段と、上記乾燥ガス生成手段に有機溶剤を供給する有機溶剤供給手段と、上記有機溶剤供給手段と乾燥ガス生成手段とを連通する有機溶剤供給管路に介設される有機溶剤の流量調節手段と、上記乾燥ガス生成手段に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、を具備し、上記乾燥ガス生成手段によって生成される乾燥ガスに占める有機溶剤の濃度が3%ないし80%であり、かつ、乾燥ガスの温度が80°Cないし150°Cであることを特徴とする乾燥処理装置。

IPC (4)：

F26B 9/06 ,  F26B 3/04 ,  F26B 21/00 ,  F26B 25/00

FI (4)：

F26B 9/06 Z ,  F26B 3/04 ,  F26B 21/00 B ,  F26B 25/00 A