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J-GLOBAL ID：200903080549480348

有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法

Inventor： 大家 利彦 ,  矢野 哲夫 ,  米田 理史 ,  勝村 宗英 ,  梶谷 孝啓 ,  田中 治 ,  丹下 善弘 ,  松田 ▲ひで▼明
Applicant, Patent owner： 大倉工業株式会社 ,  工業技術院長
Agent (1)： 工業技術院四国工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998138359
Publication number (International publication number)：1999335817
Application date： May. 20, 1998
Publication date： Dec. 07, 1999
Summary：

【要約】【目的】大がかりな装置を用いることなく、有機光学機能材料の化学構造を実質的に維持した非晶質の薄膜を基板上に形成する方法を提供すること。【構成】光学機能を有する低分子有機化合物からなるターゲットに紫外光レーザーを照射して該低分子有機化合物を気化せしめ、この気化せしめられた低分子有機化合物を基板上に堆積して薄膜を形成する方法であって、紫外光レーザーの照射強度E(mJ/cm2)が下記の条件を満たすものであることを特徴とする有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法。C×1.5≦E≦C×4(但し、C:基板上に、気化した低分子有機化合物が実質的に堆積し始める紫外光レーザーの照射強度(mJ/cm2))

Claim (excerpt)：

光学機能を有する低分子有機化合物からなるターゲットに紫外光レーザーを照射して該低分子有機化合物を気化せしめ、この気化せしめられた低分子有機化合物を基板上に堆積して薄膜を形成する方法であって、紫外光レーザーの照射強度E(mJ/cm2)が下記の条件を満たすものであることを特徴とする有機光学機能材料の非晶質薄膜形成方法。C×1.5≦E≦C×4(但し、C:基板上に、気化した低分子有機化合物が実質的に堆積し始める紫外光レーザーの照射強度(mJ/cm2))

IPC (2)：

C23C 14/12 ,  C23C 14/28

FI (2)：

C23C 14/12 ,  C23C 14/28