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J-GLOBAL ID：200903080569646080

水素生成装置

Inventor： 鵜飼 邦弘 ,  田口 清 ,  脇田 英延 ,  藤原 誠二
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001176570
Publication number (International publication number)：2002362902
Application date： Jun. 12, 2001
Publication date： Dec. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】 原料中に含まれる含硫黄成分に強い水素生成装置を提供することを目的とする。【解決手段】 少なくとも炭素および水素原子で構成される原料を供給する原料供給部4と、原料中の含硫黄成分を除去する脱硫部5と、水の水供給部7と、少なくとも酸素を含むガスの酸化ガス供給部と、脱硫部後の原料と水を反応させる改質触媒を設けた水素ガスを生成する改質部と、原料および水および酸化ガスの供給量を制御する供給量制御部8と、改質部で生成させた水素ガス中の一酸化炭素を低減する一酸化炭素除去部を設け、改質触媒を白金および金属酸化物からなる担体で構成する。

Claim (excerpt)：

少なくとも炭素および水素原子で構成される原料を供給する原料供給部と、前記原料中の含硫黄成分を除去する脱硫部と、水の水供給部と、少なくとも酸素を含むガスの酸化ガス供給部と、前記脱硫部後の原料と前記水を反応させる改質触媒を設けた水素ガスを生成する改質部と、前記原料および水および酸化ガスの供給量を制御する供給量制御部と、前記改質部で生成させた水素ガス中の一酸化炭素を低減する一酸化炭素除去部を具備する装置において、前記改質触媒を白金および金属酸化物からなる担体で構成するとともに、原料中の含硫黄成分量をもとに前記酸化ガス供給部より前記改質触媒に供給する酸化ガス量を規定することを特徴とする水素生成装置。

IPC (3)：

C01B 3/32 ,  C01B 3/40 ,  C01B 3/48

FI (3)：

C01B 3/32 A ,  C01B 3/40 ,  C01B 3/48

F-Term (9)：

4G040EA02 ,  4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EB01 ,  4G040EB31 ,  4G040EB32 ,  4G040EB42 ,  4G040EB43 ,  4G040EC03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-122902
  
• 特開昭62-246802
  
• 特開昭58-161901