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J-GLOBAL ID:200903080596483126

テフロン加工装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995091008
Publication number (International publication number):1996288099
Application date: Apr. 17, 1995
Publication date: Nov. 01, 1996
Summary:
【要約】【目的】 大面積のテフロン加工が可能なテフロン加工装置を提供する。【構成】 放射光発生装置11からのSR光を、ミラー真空槽12に配設した平面ミラー13で反射させる。平面ミラーは、ミラー駆動機構14に取り付けられており、入射SR光の光路に沿って移動させることができる。これにより、平面ミラーからの反射SR光は、光路を変え、加工用真空槽18内に保持されたテフロンの表面に広範囲に照射される。また、ミラー真空槽12と加工用真空槽18とを接続する真空ダクト16内には、SR光を通過させ、かつ、真空槽間の通気を抑制するオリフィスが設けられている。
Claim (excerpt):
放射光を発生する放射光発生手段と、前記放射光を反射する反射鏡と、該反射鏡を真空雰囲気下に置く反射鏡用真空槽と、該反射鏡用真空槽を真空排気する第1の排気手段と、前記反射鏡用真空槽に真空ダクトで連結され、被加工材及びマスクを保持する加工用真空槽と、該加工用真空槽を真空排気する第2の真空排気手段と、前記真空ダクト内に設けられ、前記反射鏡用真空槽と前記加工用真空槽との間の通気を抑制するとともに、前記放射光を通過させるオリフィスとを備えたことを特徴とするテフロン加工装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特開平1-214112
  • 特開昭63-116424
  • 特開平3-004200
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