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J-GLOBAL ID：200903080613157106

浮上型磁気ヘッドの製造方法

Inventor： 佐々木 将之 ,  南 博之 ,  赤間 博
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000195066
Publication number (International publication number)：2002015412
Application date： Jun. 28, 2000
Publication date： Jan. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】 レジスト層の誤露光を適切且つ簡便に抑制して、レジストパターンの形状精度を向上させ、所望の浮上パターンを適切に形成できるようにする。【解決手段】 レジスト層33を露光する際のパターンマスク34として、例えば磁気ヘッド素子の上層コア22の傾斜面22aのように、露光光L1を反射させて誤露光を生じさせてしまう部分に対応した位置に、露光光L1の光量を低下させる減光パターン38が設けられたパターンマスク34を用いる。

Claim (excerpt)：

空気潤滑面を有するスライダに磁気ヘッド素子が搭載されてなる浮上型磁気ヘッドの製造方法であって、上記空気潤滑面となるスライダの一主面上にレジスト層を形成する工程と、パターンマスクを用いて上記レジスト層を露光して、上記スライダの一主面上にレジストパターンを形成する工程と、上記レジストパターンが形成されたスライダの一主面に対してエッチング処理を施して、このスライダの一主面を空気潤滑面に成形する工程とを有し、上記レジスト層を露光する際のパターンマスクとして、露光に用いる光を反射させて上記レジストパターンとなる箇所以外の箇所のレジスト層を露光させてしまう部分に対応した位置に、露光に用いる光の光量を低下させる減光パターンが設けられたパターンマスクを用いることを特徴とする浮上型磁気ヘッドの製造方法。

IPC (4)：

G11B 5/60 ,  G11B 5/31 ,  G11B 5/39 ,  G11B 21/21 101

FI (6)：

G11B 5/60 C ,  G11B 5/60 Y ,  G11B 5/31 P ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/39 ,  G11B 21/21 101 L

F-Term (13)：

5D033BB14 ,  5D033BB43 ,  5D033DA07 ,  5D033DA31 ,  5D034BA02 ,  5D034BB05 ,  5D034BB12 ,  5D034DA07 ,  5D042NA02 ,  5D042PA01 ,  5D042PA05 ,  5D042PA09 ,  5D042RA02