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J-GLOBAL ID：200903080614548923

汚染物の洗浄除去剤および汚染物の洗浄除去方法

Inventor： 前野 純一 ,  奥村 辰也
Applicant, Patent owner： 荒川化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991358510
Publication number (International publication number)：1993179294
Application date： Dec. 26, 1991
Publication date： Jul. 20, 1993
Summary：

【要約】【構成】 グリコールエーテル系化合物のうちの少なくとも一種、および水または炭素数8〜14の炭化水素を主成分としてなる汚染物の洗浄除去剤、ならびに前記洗浄除去剤を用いる汚染物の洗浄除去方法。【効果】 汚染物が付着した被付着物より、汚染物を効率よく除去でき、しかも被付着物を劣化させることがない。

Claim (excerpt)：

一般式(1):【化1】(式中、R1 は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはR4 CO-(R4 は炭素数1〜4のアルキル基を示す)を、R2 は炭素数1〜6のアルキル基を、R3 は水素原子またはメチル基を、nは2〜4の整数を示す)で表されるグリコールエーテル系化合物のうちの少なくとも一種、および水を主成分としてなる汚染物の洗浄除去剤。

IPC (6)：

C11D 7/26 ,  C11D 7/60 ,  C11D 10/02 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:24 ,  C11D 1:72

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平3-227400
  
• 特開昭61-162597
  
• 特開昭59-134891
  
• 特開昭59-176398
  
• 特開昭61-293274