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J-GLOBAL ID：200903080623110337

加熱処理装置

Inventor： 白川 英一
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001157030
Publication number (International publication number)：2002353110
Application date： May. 25, 2001
Publication date： Dec. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 熱による熱板自体の変形を抑制し,基板を均一に加熱する。【解決手段】 熱板63を,円形状の中心部64とその外方の外縁部65とに分割する。さらに,外縁部65を4つの円弧状の片65a,65b,65c,65dに分割する。熱板63の中央部64と片65a〜65dには,それぞれヒータ67a〜67eが設けられ,各ヒータ67a〜67eは,制御部69によって個別に制御される。熱板63の温度は,各部分毎に微調節される。

Claim (excerpt)：

基板を加熱する加熱処理装置であって,基板を加熱する熱板を有し,前記熱板は,中央部の第1の部分と,当該第1の部分の外方の第2の部分とに分割されており,前記第2の部分は,複数の片に分割されていることを特徴とする,加熱処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  H05B 3/00 370 ,  H05B 3/20 393

FI (3)：

H05B 3/00 370 ,  H05B 3/20 393 ,  H01L 21/30 567

F-Term (20)：

3K034AA04 ,  3K034AA10 ,  3K034AA16 ,  3K034AA19 ,  3K034BB06 ,  3K034BB14 ,  3K034BC03 ,  3K034BC12 ,  3K034DA03 ,  3K034HA04 ,  3K034JA04 ,  3K034JA10 ,  3K058AA22 ,  3K058BA00 ,  3K058CA12 ,  3K058CA70 ,  3K058CE13 ,  3K058CE19 ,  3K058CE23 ,  5F046KA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ヒータ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-377794   Applicant：イビデン株式会社