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J-GLOBAL ID：200903080638856068

ケイ素ポリマーおよびその製造方法

Inventor： 松木 安生 ,  江幡 敏 ,  竹内 安正
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999189083
Publication number (International publication number)：2001011184
Application date： Jul. 02, 1999
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 有機溶媒溶液から均一な塗膜を形成できそして塗膜としたのち加熱等によりシリコンに変換可能な、有機溶媒可溶性のシリコンポリマーおよびその製造方法を提供すること。【解決手段】 下記組成式SiHxRyここで、Rは1価の有機基であり、xは0.01〜3の数でありそしてyは0.01〜3の数である、但しx+y≦4である、で表されそしてポリスチレン換算重量平均分子量が少なくとも2000であることを特徴とするケイ素ポリマー。このケイ素ポリマーは、(1)テトラハロゲン化ケイ素と下記式RQXnここで、Rは1価の有機基であり、Qはシリコン原子またはマグネシウム原子であり、Xはハロゲン原子でありそしてnは、Qがシリコン原子のときは3であり、マグネシウム原子のときは1である、で表される化合物と金属リチウムおよび/または金属マグネシウムを反応させ、次いで(2)工程(1)で得られた反応生成物をLiAlH4で還元する、ことにより製造される。

Claim (excerpt)：

実質的に、下記組成式SiHxRyここで、Rは1価の有機基であり、xは0.01〜3の数でありそしてyは0.01〜3の数である、但しx+y≦4である、で表されそしてポリスチレン換算重量平均分子量が少なくとも2000であることを特徴とするケイ素ポリマー。

F-Term (3)：

4J035JA01 ,  4J035JB02 ,  4J035LB20