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J-GLOBAL ID：200903080667547180

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 阿出川 豊
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000280035
Publication number (International publication number)：2002090986
Application date： Sep. 14, 2000
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもPCD、PED安定性に優れたネガ型電子線又はX線レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】(A)フェノール性水酸基が部分的に、アルキルエーテル化,、アリールエーテル化、アルケニルエーテル化あるいはアラルキルエーテル化されたポリビニルフェノール、及びフェノール性水酸基が部分的に、アルキルエーテル化、アリールエーテル化、アルケニルエーテル化あるいはアラルキルエーテル化された水素添加ポリビニルフェノールからなる群から選択される少なくとも1種を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(C)酸により架橋する架橋剤、及び(D)特定の構造を分子内に少なくとも1つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とする電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)フェノール性水酸基が部分的に、アルキルエーテル化,、アリールエーテル化、アルケニルエーテル化あるいはアラルキルエーテル化されたポリビニルフェノール、及びフェノール性水酸基が部分的に、アルキルエーテル化、アリールエーテル化、アルケニルエーテル化あるいはアラルキルエーテル化された水素添加ポリビニルフェノールからなる群から選択される少なくとも1種を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(C)酸により架橋する架橋剤、及び(D)下記一般式(X)で示される部分構造を分子内に少なくとも1つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とする電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。【化1】

IPC (6)：

G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (33)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA00 ,  4J002BC12W ,  4J002CD05X ,  4J002EB006 ,  4J002EJ017 ,  4J002EJ047 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU107 ,  4J002EU187 ,  4J002EU237 ,  4J002EV047 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002FD090 ,  4J002FD14X ,  4J002FD147 ,  4J002FD206 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03