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J-GLOBAL ID：200903080667666537

電子線照射装置

Inventor： 濱野 勝
Applicant, Patent owner： 日新ハイボルテージ株式会社
Agent (1)： 中沢 謹之助 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995125519
Publication number (International publication number)：1996285999
Application date： Apr. 15, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】 電子線の被照射物の照射面に対する均一分布を図るための細かな構造的な分布調整作業を省略することのできる電子線照射装置を提供すること。【構成】 電子線照射窓5を有する真空チャンバー4と、前記真空チャンバー4内に配置された電子を放出するフィラメント2と電子ビームを制御する制御グリッド13からなり、前記制御グリッド13は前記フィラメント2の長手方向に複数に分割して配設されると共に、各分割された制御グリッド13の各々はトランジスタTrnからなる定電流回路17に接続し、これにより各制御グリッド13を通過する電子線を平均化した構成

Claim (excerpt)：

電子線照射窓を有する真空チャンバーと、前記真空チャンバー内に配置された電子発生源と制御グリッドからなる電子線照射装置において、前記制御グリッドは前記電子発生源の長手方向に複数に分割して配設されると共に、各分割された制御グリッドの各々は定電流回路に接続されてあることを特徴とする電子線照射装置。

IPC (3)：

G21K 5/04 ,  H01J 19/38 ,  H01J 37/06

FI (3)：

G21K 5/04 E ,  H01J 19/38 ,  H01J 37/06 B