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J-GLOBAL ID：200903080670147486

マスク検査装置

Inventor： 若崎 邦義 ,  池田 正己
Applicant, Patent owner： 東芝機械株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994220679
Publication number (International publication number)：1996087101
Application date： Sep. 14, 1994
Publication date： Apr. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】 多重描画を行って形成したマスクのパターンを1つの設計データとの比較で1パスで検査することができるマスク検査装置を提供すること。【構成】 多重露光によりLSIのパターンが形成されたマスクに光を照射し、その透過光を検出してマスクパターンの像を撮像し、撮像パターンデータと設計パターンデータとの比較によりパターン欠陥の有無を検査するマスク検査装置において、検査領域を短冊状のフレームに分割してフレーム単位で検査を行い、かつフレーム単位の検査の中で検査不要部を設定することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

所定のパターンが形成されたマスクに光を照射し、その透過光又は反射光を検出してマスクパターンの像を撮像し、撮像パターンと設計パターンとの比較により欠陥の有無を検査するマスク検査装置において、検査領域を短冊状のフレームに分割してフレーム単位で検査を行う手段と、フレーム単位の検査の中で検査不要部を設定する手段とを具備してなることを特徴とするマスク検査装置。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭61-216428
  
• 特開昭60-005522
  
• 特開昭61-216428
  
• 特開昭60-005522