スライスしたウエハー又は板状物の洗浄剤組成物および洗浄方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：細田芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996053813
Publication number (International publication number)：1997223679
Application date： Feb. 16, 1996
Publication date： Aug. 26, 1997
Summary：

【要約】【解決手段】(a)炭素数10〜18の炭化水素、(b)一般式(I):R1 -O-(CkH2kO)j -Hで表されるアルキレンオキサイド化合物、(c)一般式(II):R2 -O-(Cm H2mO)n -R3 で表されるアルキレンオキサイド化合物、(d)非イオン性界面活性剤、及び(e)水を含有する、スライスしたウエハー又は板状物の洗浄剤組成物、並びに、洗浄液中の粒子濃度を1重量%以下に制御しつつ洗浄する工程及びすすぎ洗いを行う工程を有するスライスしたウエハー又は板状物の洗浄方法。【効果】本発明の洗浄剤組成物は、洗浄性、油状成分分離性、エポキシ系接着剤の剥離性に優れたものである。かかる洗浄剤組成物を用いる本発明の洗浄方法は効率的であり、経済的であり、さらに安全性が高い。

Claim (excerpt)：

次の成分(a)〜(e):(a)炭素数10〜18の炭化水素 25〜65重量%;(b)一般式(I) R1 -O-(Ck H2kO)j -H (I)(式中、R1 は炭素数1〜8の炭化水素基を示し、kは2又は3の数を示し、jは1〜3の数を示す。)で表されるアルキレンオキサイド化合物 15〜45重量%;(c)一般式(II) R2 -O-(Cm H2mO)n -R3 (II)(式中、R2 、R3 は炭素数1〜8の炭化水素基を示し、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。mは2又は3の数を示し、nは1〜3の数を示す。)で表されるアルキレンオキサイド化合物 5〜15重量%;(d)平均HLB4〜18の非イオン性界面活性剤 5〜30重量%;(e)水 3〜15重量%;を含有し、成分(a)と成分((b)+(c))との重量比(a)/〔(b)+(c)〕が0.50〜3.20であることを特徴とする、スライスしたウエハー又は板状物の洗浄剤組成物。

IPC (7)：

H01L 21/304 321 , H01L 21/304 341 , C11D 1/72 , C11D 3/18 , C11D 3/20 , C11D 7/24 , C11D 7/26

FI (7)：

H01L 21/304 321 A , H01L 21/304 341 L , C11D 1/72 , C11D 3/18 , C11D 3/20 , C11D 7/24 , C11D 7/26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

半導体ウェーハの製造システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-002865 Applicant：株式会社東京精密
半導体基板洗浄方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-164470 Applicant：ソニー株式会社
特開昭59-001124

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