Pat

J-GLOBAL ID：200903080709214046

リソグラフィ・マスクの設計および基板上での多様なプローブの合成

Inventor： ハベル,アール・エイ ,  ストリヤー,ルバート ,  ミットマン,マイケル・ピイ
Applicant, Patent owner： アフィメトリックス・インコーポレーテッド
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003333828
Publication number (International publication number)：2004141152
Application date： Sep. 25, 2003
Publication date： May. 20, 2004
Summary：

【課題】 プローブ・アレイ製造におけるリソグラフィック・マスクの設計および使用のより効率的な手法を見つけ出すこと、具体的には、少量設計の際に、必要なレチクルの数を減らすこと【解決手段】基板上にプローブを合成するシステムおよび方法を用意する。1つまたは複数のシフト・レチクルを利用して、基板の指定の場所に単量体を一様に付加する。シフト・レチクルは、単量体付加の段階と段階の間に、基板に対してシフトされる。さらに、所望のプローブの特性を合成時に指定することができる。【選択図】 図6

Claim (excerpt)：

基板上にプローブを合成する方法において、 基板の指定の場所に単量体を一様に付加するための少なくとも1つのレチクルを用意する段階と、 前記少なくとも1つのレチクルを利用して合成しようとするプローブの特性に関する入力を受け取る段階と、 前記少なくとも1つのレチクルを利用して、基板上に前記所望のプローブを合成する段階と を含むことを特徴とする方法。

IPC (3)：

C12N15/09 ,  G01N33/53 ,  G01N37/00

FI (3)：

C12N15/00 F ,  G01N33/53 M ,  G01N37/00 102

F-Term (11)：

4B024AA11 ,  4B024CA01 ,  4B024CA09 ,  4B024HA11 ,  4B063QA01 ,  4B063QA18 ,  4B063QQ42 ,  4B063QQ52 ,  4B063QR55 ,  4B063QR82 ,  4B063QS39

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特表平6-504997
  
• 特表平6-504997