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J-GLOBAL ID：200903080711513719

ガスハイドレート生成装置

Inventor：
権田 哲夫

About 権田 哲夫


Applicant, Patent owner：
三菱マテリアル資源開発株式会社

About 三菱マテリアル資源開発株式会社


Agent (1)： 千葉 博史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001081142
Publication number (International publication number)：2002273205
Application date： Mar. 21, 2001
Publication date： Sep. 24, 2002
Summary：
【要約】【課題】 ガスハイドレートを安定に効率よく生成する装置を提供する。【解決手段】 ガスが溶解した水溶液が溜まる滞留室、溶解させるガスを滞留室に送り込むガス導入路、上記滞留室に通じるガス水溶液の循環路、ガス水溶液の冷却手段および循環手段とを有し、好ましくは、ガス導入路から滞留室に至る間に、内部が多孔質に形成された混合室が設けられており、ガス水溶液を循環しながらガスハイドレートの生成を促すガスハイドレート生成装置。
Claim (excerpt)：
ガスが溶解した水溶液が溜まる滞留室、溶解させるガスを滞留室に送り込むガス導入路、上記滞留室に通じるガス水溶液の循環路、ガス水溶液の冷却手段および循環手段とを有し、ガス水溶液を循環しながら冷却してガスハイドレートの生成を促すことを特徴とするガスハイドレート生成装置。
IPC (2)：
B01J 19/00 ZAB ,  C01B 31/20
FI (2)：
B01J 19/00 ZAB A ,  C01B 31/20 Z
F-Term (11)：
4G046JB01 ,  4G075AA04 ,  4G075AA37 ,  4G075BB03 ,  4G075BB10 ,  4G075BD10 ,  4G075DA01 ,  4G075EA05 ,  4G075EE05 ,  4G075FA14 ,  4G075FB06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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