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J-GLOBAL ID:200903080816445590

ポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999324406
Publication number (International publication number):2001142208
Application date: Nov. 15, 1999
Publication date: May. 25, 2001
Summary:
【要約】【課題】 i線に対して高感度、高残膜率で、更に現像後にスカムの発生がないパターンが得ることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 一般式(1)で示されるフェノール化合物1モルに1、2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸クロライドを仕込みで2.7〜3.0モルを反応させたジアゾキノン誘導体と一般式(2)で示されるポリアミド100重量部とそのジアゾキノン誘導体1〜100重量部からなるポジ型感光性樹脂組成物に関するものである。【化17】【化18】
Claim (excerpt):
一般式(1)で示されるフェノール化合物1モルに1、2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸クロライドを仕込みで2.7〜3.0モルを反応させたジアゾキノン誘導体1〜100重量部と一般式(2)で示されるポリアミド100重量部からなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】【化2】
IPC (4):
G03F 7/027 514 ,  C08L 77/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/037
FI (4):
G03F 7/027 514 ,  C08L 77/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/037
F-Term (14):
2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA08 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB24 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J002CL071 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J002GQ05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平3-048249

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