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J-GLOBAL ID：200903080818235312

化粧料

Inventor： 海塩 健一 ,  福井 寛 ,  大野 和久 ,  青山 真人 ,  田中 俊行 ,  山岡 弘明
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂 ,  三菱化学株式会社
Agent (1)： ▲高▼野 俊彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997166636
Publication number (International publication number)：1999001420
Application date： Jun. 09, 1997
Publication date： Jan. 06, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 化粧持ちに優れ、紫外線防止効果が持続し、使用感触の良好な化粧料を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で示されるポリシロキサン含有ビニル系単量体(A)と下記一般式(II)で示される紫外線吸収基を有するビニル系単量体(B)とを、(A)と(B)の比率が重量比で10対90から90対10の範囲で共重合して得られた、数平均分子量が2,000〜2,000,000であるベンゾフェノン基又はベンゾトリアゾール基を有するポリシロキサン系共重合体を含有することを特徴とする化粧料。CH2=CR1-X-(Si(R2)2O)n-Si(R3)3 (I)(式中、R1は水素原子またはメチル基を示す。R2とR3は炭素数1〜3のアルキル基またはフェニル基で、同じ基でも異なっていても良い。nは6〜100の整数を示す。Xはフェニレン基または-COOCmH2m-(m=1〜5の整数)で示されるカルボニルオキシアルキレン基などを示す。)CH2=CR1-Y (II)(式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、Yはベンゾフェノン基又はベンゾトリアゾール基を示す。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で示されるポリシロキサン含有ビニル系単量体(A)と下記一般式(II)で示される紫外線吸収基を有するビニル系単量体(B)とを、(A)と(B)の比率が重量比で10対90から90対10の範囲で共重合して得られた、数平均分子量が2,000〜2,000,000であるベンゾフェノン基又はベンゾトリアゾール基を有するポリシロキサン系共重合体を含有することを特徴とする化粧料。【化1】CH2=CR1-X-(Si(R2)2O)n-Si(R3)3 (I)(式中、R1は水素原子またはメチル基を示す。R2とR3は炭素数1〜3のアルキル基またはフェニル基で、同じ基でも異なっていても良い。nは6〜100の整数を示す。Xはフェニレン基または-COOCmH2m-(m=1〜5の整数)で示されるカルボニルオキシアルキレン基または-COOCmH2m-O-CmH2m-(m=1〜5の整数)で示されるカルボニルオキシアルキレンオキシアルキレン基を示す。)【化2】CH2=CR1-Y (II)(式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、Yはベンゾフェノン基、ベンゾトリアゾール基のいずれかより選ばれる基を有する置換基を示す。)

IPC (6)：

A61K 7/42 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/027 ,  A61K 7/035 ,  A61K 7/043 ,  A61K 7/06

FI (7)：

A61K 7/42 ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/027 ,  A61K 7/035 ,  A61K 7/043 ,  A61K 7/06